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溶融シリカロッド は、優れた高温耐性、優れた光透過率、化学的安定性により、多くのハイエンド産業分野で不可欠な材料となっています。 1700℃を超える温度に耐え、強酸やアルカリなどの腐食環境にも耐えることができるため、現代の工業生産において不可欠なものとなっています。
半導体製造においては、 溶融シリカロッド 高温炉管、ウェーハサポートロッド、その他の重要な高温部品に広く使用されています。熱膨張係数が低い (約 0.5 × 10-6/℃) ため、高温焼結およびアニーリング中の寸法安定性が確保され、ウェーハの変形が防止されます。たとえば、シリコンウェーハの製造に使用される CVD (化学気相成長) 炉では、溶融シリカロッドは 1300℃ で何千時間も亀裂を生じることなく連続運転できます。
溶融シリカロッドは、光学およびレーザーの分野でも重要な用途を持っています。高純度で紫外線透過率に優れ(紫外線透過率90%以上)、レーザー光学部品や紫外線光源に最適な材料です。たとえば、193nm 紫外線レーザー エッチング装置では、ビーム伝導と保護シールドに溶融シリカ ロッドが使用されます。その安定性は加工精度と寿命に直接影響します。
化学産業では、溶融シリカロッドは高温反応器、パイプライナー、腐食性媒体輸送システムで一般的に使用されています。溶融シリカロッドは化学的安定性が極めて高いため、濃硫酸やフッ酸などの環境下でも長期間使用でき、腐食による金属材料の損傷を防ぎます。さらに、ガラス溶解炉や石英るつぼなどの高温炉設備において、溶融シリカロッドは 1600℃を超える連続熱負荷に耐えることができ、生産の安全性と安定性を確保します。
太陽光発電産業の発展に伴い、溶融シリカロッドは太陽電池製造において重要な役割を果たしています。これらはシリコンウェーハの引き上げ、結晶サポート、および高温アニールプロセスに使用され、結晶構造の完全性と光電変換効率を保証します。たとえば、単結晶シリコンロッドの引上げでは、溶融シリカロッドは変形することなく約1500℃で長期間使用でき、均一なロッド直径が保証され、最終的な太陽光発電モジュールの性能が向上します。
科学研究室や精密機器では、溶融シリカロッドがその高純度さと安定性から光学機器、分析機器、実験反応装置などに広く使用されています。例えば、紫外分光計や真空紫外実験では、溶融石英ロッドが急激な温度変化に耐えながら光路の高い光透過率を確保し、高精度の科学実験の要求に応えます。
溶融シリカロッドは、高温耐性、優れた光学特性、化学的安定性を備えており、半導体、光学、化学、太陽光発電、科学研究などの産業分野でかけがえのない役割を果たしています。ハイエンド製造の発展に伴い、高性能溶融シリカロッドの需要は拡大し続けており、工業生産に信頼できる材料保証を提供しています。
















